Technologia Sensing RF

NIEINWAZYJNY, ZACISKOWY DETEKTOR RF DOSTARCZA WYSOKIEJ PRĘDKOŚCI WYKRYWANIE ŁUKÓW W iPVD, PECVD I ETCH Redukcja strat wafli i poprawa wydajności Łuki podczas przetwarzania plazmowego mogą prowadzić do uszkodzenia celu i komory, co skutkuje uszkodzeniem podłoża i powstawaniem cząstek. W miarę zmniejszania się rozmiarów cech, urządzenia mikroelektroniczne stają się coraz bardziej podatne na uszkodzenia spowodowane łukami. Łuki mogą występować w każdym procesie wspomaganym plazmą, takim jak zjonizowane osadzanie fizycznej pary (iPVD), osadzanie chemiczne wspomagane plazmą (PECVD) oraz trawienie. Detektor Łuków Sion firmy INFICON stanowi kluczową pierwszą linię obrony. Sion umożliwia szybkie wykrywanie mikro-łuków i reagowanie na nie, zanim dojdzie do znacznych uszkodzeń lub odpadów. System zapewnia wykrywanie i analizę zdarzeń mikro-łuków plazmowych w czasie rzeczywistym.