analiza plazmy

... w problemach produkcyjnych, co znacząco redukuje zmienność procesu. Najnowszy element zaawansowanej kontroli procesów w in situ, ten nieinwazyjny czujnik RF montowany na kablu łączy się z systemem integracji i analizy czujników FabGuard, oferując kluczowe informacje diagnostyczne, takie jak dokładne pomiary mocy komory i procesu oraz impedancji, analiza przyczyn źródłowych usterek (takich jak...

... zastosowania: Spektrometr masowy do analizy cienkowarstwowej, plazm i opracowywania powierzchni Konfigurowalne i wszechstronne systemy próbkowania procesów próżniowych: Analiza trendów procesu Opcje zakresu masy 200, 300, 500 lub 1000 amu: Monitorowanie zanieczyszczeń...

...-Plasma pozwala na zarówno osiowe, jak i radialne obserwowanie plazmy – przy użyciu tylko jednego urządzenia. Dzięki opcji MultiView bez peryskopu, SPECTRO ARCOS fundamentalnie zmienił podstawową konstrukcję urządzenia. Zmiana kierunku obserwacji plazmy zajmuje mniej niż 90 sekund. Z radialnego na osiowy lub odwrotnie. Generator SPECTRO ARCOS wprowadza nową erę wytwarzania plazmy. To źródło mocy opiera się na technologii Lateral Diffused Metal-Oxide Semiconductor (LDMOS).

Systemy CAD i systemy CAM dla maszyn tnących, laserów, strumieni wodnych, tlen-acetylenowych, plazmy, frezowania konturów, a także dla wykrawania, nibblingu, robotów tnących i robotów spawalniczych.

...Wysokowydajne spektrometry masowe typu kwadrupolowego w badaniach i produkcji. Nasze produkty są skierowane do zastosowań takich jak precyzyjna analiza gazów, innowacyjna diagnostyka plazmy, systemy SIMS do analizy powierzchni w UHV, badania katalizy, badania termograwimetryczne - w zakresie ciśnienia od 30 bar do zastosowań UHV/XHV.